Services de métallurgie des poudres à cible de pulvérisation cathodique
La métallurgie des poudres joue un rôle essentiel dans la fabrication de cibles de pulvérisation et peut répondre aux exigences de traitement de haute précision et de haute qualité des cibles de pulvérisation dans différentes industries.
- Tolérance: +/- 0.005 mm
- Certifié ISO 9001 : 2016
- Dimensions : 2 mm à 400 mm
- Cible de pulvérisation en céramique
- Cible de pulvérisation en métal pur
Atelier Wstitanium
Nos puissantes installations
Fabricant de cibles de pulvérisation cathodique pour métallurgie des poudres
Cibles de pulvérisation Les titanes sont un matériau clé largement utilisé dans de nombreux domaines de haute technologie tels que les semi-conducteurs, les écrans plats et les cellules solaires. Leur qualité et leurs performances influencent directement la qualité et les performances du produit final. La technologie de la métallurgie des poudres joue un rôle de plus en plus important dans la fabrication de cibles de pulvérisation cathodique grâce à ses avantages uniques. WStitanium s'est imposé comme une référence industrielle dans ce domaine grâce à son expertise technique approfondie et à son innovation continue dans le domaine de la métallurgie des poudres. Nous nous efforçons de fournir des cibles de pulvérisation cathodique personnalisées et de haute qualité à nos clients du monde entier.
Qu'est-ce que la métallurgie des poudres ?
La métallurgie des poudres est une technologie de procédé qui utilise la poudre (un mélange de poudre métallique ou céramique et de poudre non métallique) comme matière première, par moulage et frittage, pour fabriquer divers types de cibles de pulvérisation cathodique en métal, céramique et matériaux composites. Son principe de base consiste à utiliser la friction mécanique et la diffusion atomique entre les particules de poudre pour les combiner à une température inférieure au point de fusion afin de former une cible de pulvérisation cathodique de forme, de taille et de performances spécifiques.
- 1. Production de poudre
Tout métal ou céramique transformable en poudre peut être utilisé comme matière première. Les techniques de préparation de poudre les plus courantes incluent le broyage mécanique, l'atomisation, la réduction, etc. Différentes méthodes de préparation influencent la granulométrie, la forme, la pureté et l'activité de la poudre.
- 2. Mélange de poudre
Les poudres de différents composants sont mélangées uniformément dans des proportions précises afin de garantir l'homogénéité de la composition de la cible de pulvérisation. Le mélange peut être réalisé par agitation mécanique, broyage à billes, etc.
- 3. Formation par compactage
Appliquer une pression sur la poudre mélangée pour former une ébauche de la forme souhaitée. Les procédés de formage les plus courants incluent le moulage par compression, le pressage isostatique, le moulage par injection, etc. Le choix du procédé de formage dépend de la forme, de la taille et des exigences de précision de la cible.
- 4. Frittage
Chauffer la pièce brute à une température donnée sous gaz protecteur permet de provoquer la diffusion atomique et la liaison métallurgique entre les particules, augmentant ainsi sa densité et sa résistance. Le frittage a une influence déterminante sur les performances finales de la cible.
- 5. Finition
Selon les exigences spécifiées dans le dessin, la cible de pulvérisation frittée est ensuite traitée, comme l'usinage CNC, le meulage, le perçage, le traitement thermique, le traitement de surface, etc., pour obtenir les performances finales et la précision dimensionnelle.
- 6. Contrôle qualité
À l'aide de la spectroscopie, de la spectrométrie de masse, de la spectroscopie de fluorescence X et d'autres technologies, la composition chimique de la cible est testée avec précision pour garantir que la pureté et la composition de la cible répondent aux exigences.
Capacités de formage par compression du titane
Le formage par compactage est un procédé clé pour donner à la cible de pulvérisation sa forme initiale. Grâce à des moules spécifiques et à l'application de pression, les poudres de matières premières, telles que les métaux et les céramiques, peuvent être transformées en formes souhaitées : plates, carrées, cylindriques, irrégulières, etc. Les cibles planes utilisées dans la fabrication d'écrans plats doivent être façonnées avec précision et précision grâce au moulage par compression. Si l'écart de forme au niveau de la liaison de compression est difficile à corriger ultérieurement, cela affectera directement l'adaptabilité de la cible à l'équipement de pulvérisation et l'uniformité du revêtement. WSTITANIUN propose trois technologies pour les cibles de pulvérisation par formage par compactage.
- Taille minimale : 1×2×2 mm
- Taille maximale : 200 × 200 × 80 mm
- Épaisseur minimale de la paroi : 0.4 mm
- Épaisseur de paroi maximale : 80 mm
- Poids net minimum : 0.1 g
- Poids net maximal : 750 g
- Référence de conception de précision : taille de la pièce de 0.1 %
- Tolérance minimale : ± 0.02 mm
- Rentable MOQ : 100 pièces
- Efficacité maximale : 30 XNUMX pièces par jour
Moulage par compression
Le moulage par compression est l'un des procédés de moulage couramment utilisés par WSTITANIUN pour la fabrication de cibles de pulvérisation cathodique. Nous avons investi dans des équipements de moulage par compression de pointe permettant de contrôler avec précision des paramètres tels que la pression de pressage, la vitesse et le temps de maintien. Lors du moulage par compression, la poudre prétraitée est placée dans un moule de forme spécifique, puis une pression est appliquée sur le moule par une presse pour compacter la poudre. Pour certaines cibles de formes simples et de petites dimensions, le moulage par compression permet de produire efficacement des ébauches de haute qualité. Afin d'améliorer la densité et l'uniformité de l'ébauche, l'entreprise utilise également des technologies telles que la compression bidirectionnelle et la compression multiple, et ajoute une quantité appropriée de lubrifiant à la poudre afin de réduire la friction entre la poudre et le moule et d'assurer une transmission de pression plus uniforme.
Pour la pulvérisation cathodique de cibles aux formes complexes, le moulage par injection est un procédé idéal. Tout d'abord, une poudre métallique ou céramique est entièrement mélangée à une quantité appropriée de liant afin d'obtenir un matériau d'injection fluide. La qualité et la stabilité du matériau d'injection sont assurées par l'optimisation de la formule du liant et du procédé de mélange. Ensuite, le matériau d'injection est chauffé à une température appropriée dans la machine d'injection pour obtenir une bonne fluidité, puis injecté à grande vitesse dans la cavité du moule par la vis ou le piston de la machine. Pendant le processus d'injection, la pression, la vitesse, la température et d'autres paramètres sont contrôlés avec précision afin de garantir un remplissage uniforme de la cavité du moule et la formation d'une ébauche de haute précision. Après moulage par injection, l'ébauche est soumise à des traitements ultérieurs tels que le dégraissage et le frittage pour obtenir le produit final.
Pressage isostatique
Le pressage isostatique est un procédé clé pour WSTITANIUN, qui permet de fabriquer des cibles de pulvérisation de grandes dimensions et complexes. Le pressage isostatique à froid consiste à charger la poudre dans un moule élastique, à le sceller et à le placer dans un récipient haute pression. Une pression uniforme est appliquée à travers un liquide (eau, huile, etc.) afin de compacter et de former la poudre uniformément dans toutes les directions. Le pressage isostatique à chaud consiste à placer la poudre ou le corps vert dans un emballage étanche, puis à le placer dans l'équipement de pressage isostatique à chaud, sous haute température et haute pression. La poudre est ainsi non seulement compactée, mais aussi frittée, ce qui améliore considérablement la densité et la résistance du corps vert. Lors du pressage isostatique, un contrôle strict des paramètres tels que la pression, la température et le temps de maintien est nécessaire pour garantir la stabilité et la constance de la qualité du moulage.
– Équipement de pressage isostatique à froidWSTITANIUN dispose de plusieurs équipements de pressage isostatique à froid de différentes spécifications, avec une plage de pression généralement comprise entre 50 MPa et 300 MPa, permettant d'obtenir une pression uniforme et stable pour compacter la poudre. Ces équipements adoptent une conception avancée de conteneurs haute pression et une technologie d'étanchéité pour garantir sécurité et fiabilité dans un environnement à haute pression. Ils sont équipés d'un système de contrôle de pression de haute précision, permettant d'ajuster avec précision la pression et le temps de maintien, avec une précision de ± 0.5 MPa. De plus, ces équipements de pressage isostatique à froid sont dotés d'un système de chargement et de déchargement automatique pour améliorer l'efficacité de la production et réduire les erreurs liées aux opérations manuelles.
– Équipement de pressage isostatique à chaudL'équipement de pressage isostatique à chaud est l'un des équipements clés de WSTITANIUN pour la fabrication de cibles de pulvérisation cathodique hautes performances. Il peut traiter des poudres ou des ébauches à haute température (jusqu'à 2000 °C) et haute pression (jusqu'à 200 MPa) afin d'améliorer la densité, la résistance et les performances globales de la cible. Il intègre des systèmes de chauffage avancés, tels que le chauffage par résistance au graphite ou le chauffage par fil de molybdène, permettant un chauffage rapide et un contrôle précis de la température, avec une précision de ± 5 °C. Le système de pression adopte une technologie d'entraînement hydraulique avancée et assure une pression constante.
Matériaux de métallurgie des poudres
Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) impose des exigences strictes en matière de pureté, de densité, de microstructure et de précision de forme des cibles de pulvérisation cathodique. Différents types de cibles sont utilisés dans différents domaines en raison de leurs propriétés physiques et chimiques uniques. Les matériaux cibles courants comprennent les cibles en métal pur (3N, 3N5, 4N, 4N5, 5N, 6N, etc.), les cibles en céramique, les cibles en alliage et les cibles en terres rares. Les scientifiques de WSTITANIUN, dotés d'une solide formation théorique en science des matériaux, peuvent vous fournir des solutions de cibles de pulvérisation cathodique sur mesure. La composition des matériaux est conçue avec précision pour répondre aux exigences des différents domaines d'application en matière de performances des cibles de pulvérisation cathodique.
Cible de pulvérisation en métal pur
- Or (Au)
- Argent (Ag)
- Nickel (Ni)
- Cuivre (Cu)
- Titane (Ti)
- Tungstène (W)
- Aluminium (Al)
- Chrome (Cr)
- Ruthénium (Ru)
- Molybdène (Mo)
- Indium (en)
- Platine (Pt)
- Hafnium (Hf)
- vanadium (V)
- Niobium (Nb)
- Rhodium (Rh)
- Tantale (Ta)
- Zirconium (Zr)
- Palladium (Pd)
- Manganèse (Mn)
Cibles de pulvérisation en céramique
- Oxyde de zinc (ZnO)
- Oxyde d'yttrium (Y₂O₃)
- Nitrure de titane (TiN)
- Oxyde d'indium et d'étain (ITO)
- Dioxyde de titane (TiO₂)
- Nitrure d'aluminium (AlN)
- Oxyde d'aluminium (Al₂O₃)
- Dioxyde de zirconium (ZrO₂)
- Oxyde de magnésium (MgO)
- Titanate de baryum (BaTiO₃)
- Sulfure de zinc (ZnS)
- Nitrure de bore (BN)
- Carbure de silicium (SiC)
- Séléniure de zinc (ZnSe)
- Oxyde de cérium (CeO₂)
- Oxyde de scandium (Sc₂O₃)
- Oxyde de lanthane (La₂O₃,
- Tantalate de lithium (LiTaO₃)
- Tellurure de cadmium (CdTe)
- Titanate de zirconate de plomb (PZT)
Cible de pulvérisation en alliage de terres rares
- Oxyde de cérium (CeO₂)
- Oxyde de terbium (Tb₄O₇)
- Oxyde d'holmium (Ho₂O₃)
- Oxyde d'europium (Eu₂O₃)
- Oxyde de samarium (Sm₂O₃)
- Oxyde de lanthane (La₂O₃)
- Oxyde de gadolinium (Gd₂O₃)
- Oxyde de dysprosium (D y₂O₃)
- Oxyde de néodyme (Nd₂O₃)
- Oxyde de praséodyme (Pr₆O₁₁)
- Yttrium (Y)
- Alliage NdFeB
- Scandium (Sc)
- Oxyde d'erbium (Er₂O₃)
- Oxyde de thulium (Tm₂O₃)
- Oxyde de lutécium (Lu₂O₃)
- Oxyde d'ytterbium (Yb₂O₃)
- Alliage lanthane-cérium
- Aluminate d'yttrium dopé au terbium
- Oxyde d'yttrium dopé à l'europium (Y₂O₃:Eu)
Cible de pulvérisation en alliage
- Alliage nickel-fer (NiFe)
- Alliage argent-cuivre (AgCu)
- Alliage nickel-vanadium (NiV)
- Alliage aluminium-nickel (AlNi)
- Alliage nickel-aluminium (NiAl)
- Alliage tungstène-titane (WTi)
- Alliage chrome-nickel (CrNi)
- Alliage cobalt-chrome (CoCr)
- Alliage tantale-niobium (TaNb)
- Alliage de zirconium-titane (ZrTi)
- Alliage fer-cobalt (FeCo)
- Alliage titane-zinc (TiZn)
- Alliage zinc-aluminium (ZnAl)
- Alliage titane-nickel (TiNi)
- Alliage titane-silicium (TiSi)
- Alliage aluminium-silicium (AlSi)
- Alliage nickel-chrome (NiCr)
- Alliage chrome-silicium (CrSi)
- Alliage titane-aluminium (TiAl)
- Alliage titane-zirconium (TiZr)
Galerie de cibles pulvérisées
