Cible de pulvérisation cathodique au tantale (Ta) personnalisée
certifié: CE, SGS et ROHS
Forme: Demandé
Diamètre: Personnalisé
Dessins: STEP, IGS , X_T, PDF
Livraison: DHL, Fedex ou UPS et fret maritime
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La cible de pulvérisation cathodique en tantale est un matériau essentiel utilisé en dépôt physique en phase vapeur (PVD). Des faisceaux d'ions à haute énergie bombardent la surface de la cible, provoquant la projection d'atomes de tantale sur le substrat, formant ainsi un film de tantale uniforme. Ce film présente d'excellentes propriétés et est largement utilisé dans de nombreux domaines tels que les semi-conducteurs, l'électronique, l'optique et le traitement médical.
