Testreszabott tantál (Ta) porlasztási célpont

A tantál porlasztási céltárgy kulcsfontosságú anyag a fizikai gőzfázisú leválasztásban (PVD). Nagy energiájú ionsugarak bombázzák a tantál porlasztási céltárgy felületét, aminek következtében a tantál atomok kiperegnek a céltárgy felületéről és lerakódnak az aljzatanyagra, így egyenletes tantálfilmet képezve. Ez a film számos kiváló tulajdonsággal rendelkezik, és széles körben használják számos területen, például félvezetőkben, elektronikában, optikában és az orvosi kezelésben.