Titán lemez és lemez versenyképes áron
A titánlemez gyártás területén a Wstitanium szigorúan ellenőrzi a nyersanyagokat, fejlett és érett olvasztási, kovácsolási és hengerlési technológiákat, hőkezelést és változatos felületkezelést, valamint minőségellenőrzési rendszert alkalmaz, amely biztosítja, hogy minden titánlemez megfeleljen a kiváló minőségi előírásoknak.
Tiszta titán lemez
A fő komponens a titán, amely kis mennyiségű szennyező elemet tartalmaz, mint például vas, szén, nitrogén, oxigén stb.
Titán ötvözet lemez
Alumíniumot, vanádiumot, molibdént, nióbiumot stb. adnak a titánhoz a titán teljesítményének javítása érdekében.
Melegen hengerelt/Hidegen hengerelt
A titánlemezeket meleghengerművek vagy hideghengerművek hengerelik, és a hidegen hengerelt titánlemezek felületi minősége jobb.
Megbízható titánlemezgyár – Wstitanium
Kiváló teljesítményű anyagként a titánlemez pótolhatatlan és fontos szerepet játszik számos területen, mint például a repülőgépiparban, az orvostudományban, a vegyiparban és a tengerészetben a nagy szilárdság, az alacsony sűrűség, a jó korrózióállóság, a biokompatibilitás, valamint a magas és alacsony hőmérsékletű környezetben való stabilitás előnyei miatt. A Wstitanium erős versenyképességről és kiemelkedő erőről tett tanúbizonyságot a titánlemezgyártás területén mélyreható műszaki felhalmozásával, fejlett gyártási technológiájával és szigorú minőség-ellenőrzési rendszerével.
- Formák: kovácsolt lemez, hidegen hengerelt lap, melegen hengerelt lap
- Anyagok: Grl, Gr2, Gr4, Gr5, Gr7, Gr9, Gr11, Gr12, Gr16, Gr23 stb
- Méretek: Vastagság: 0.3-5 mm, szélesség: 400-3000 mm, hosszúság: ≤ 6000 mm
- Feltételek: meleg kovácsolás és meleghengerlés, hidegen hengerelt, oldatban lágyított
- Szabványok: ASTM B265, AMS 4911, AMS 4902, ASTM F67, ASTM F136 stb.
- Felület: Savas felület (Pácoló felület) és Világos felület (Tükörfelület)
Titán lap
A vastagság 0.1-3 mm. A lap vékony, rugalmas, könnyen hajlítható és bélyegezhető. Mobiltelefonok és táblagépek héjainak gyártására használják, és széles körben használják építészeti dekorációban is. Különböző felületkezelési eljárások révén egyedi vizuális hatást tud létrehozni.
Közepes titán lemez
Vastagsága 3-20 mm. A közepes lemez bizonyos szilárdsággal és megmunkálási teljesítménnyel is rendelkezik. Ellenáll bizonyos nyomásnak és korrozív közegeknek, és hengerek, reaktorfejek, fedélzetek és válaszfalak gyártására használják, valamint megfelel a szilárdsági és korrózióállósági követelményeknek.
Titán lemez
A vastagság meghaladja a 20 mm-t. A vastag lemez nagyobb szilárdsággal és merevséggel rendelkezik, és főleg olyan esetekben használják, amikor rendkívül magas szilárdsági és szerkezeti stabilitási követelmények vannak, biztosítva a szerkezet megbízhatóságát, teherbíró képességét és tartósságát extrém munkakörülmények között.
Tiszta titán lemez
A tiszta titánlemez fő összetevője a titán, >99.5%. Erős korrózióállósággal rendelkezik, és széles körben használják a vegyi berendezésekben.
Titán ötvözet lemez
A titánötvözet lemez titán alapú, és különféle ötvözetelemeket ad hozzá. Alkalmas stabil szolgáltatásra zord környezetben.
Orvosi titán lemez
Az orvosi titán lemez kiváló biokompatibilitással rendelkezik, és szinte nincs kilökődési reakció az emberi szervezetbe történő beültetés után.
α titán lemez
Az α-titánlemez főleg α-fázisból áll. Nagy szilárdsággal, jó plaszticitással és kiváló hegesztési teljesítménnyel rendelkezik.
α＋β titán lemez
Az α＋β Titanium Plate egy titánlemez, amely α és β fázist is tartalmaz, és mindkettő előnyeit egyesíti, mint például a Gr5 titánlemez.
β titán lemez
A β Titanium Plate rendkívül magas szilárdság/tömeg aránnyal és jelentős hőkezelést erősítő hatással rendelkezik.
Melegen hengerelt titán lemez
A melegen hengerelt titán lemezt magas hőmérsékleten hengerelik. Bár a felület viszonylag érdes, kiváló szilárdsággal és szívóssággal rendelkezik.
Hidegen hengerelt titán lemez
A hidegen hengerelt titánlemezt szobahőmérsékleten hengereljük. Pontos méretekkel, sima felülettel és kiváló felületi minőséggel rendelkezik.
Testreszabott titán lemez
A testreszabott specifikációk a következők: pácolás, polírozás, eloxálás, homokfúvás stb., amelyeket a repülőgépiparban, a kémiában, az orvostudományban stb.
Titánlemez gyártás
A Wstitanium a titánércbányászat és dúsítás kezdete óta nagy felelősségtudattal és professzionalizmussal biztosítja az alapanyagok magas minőségét. Egy sor összetett folyamatban, mint például a szivacsos titángyártás, olvasztás, kovácsolás, hengerlés, hőkezelés és felületkezelés, folyamatosan optimalizáljuk és befektetünk a fejlett technológiákba és berendezésekbe, hogy javítsuk a titánlemezek teljesítményét és minőségét.
Titán szivacs
A titánlemezek gyártásának fő nyersanyaga a szivacs-titán, gyártási módszere pedig főként a Kroll eljárás. A titánkoncentrátumot magas hőmérsékleten klórozva titán-tetrakloridot (TiCl2) állítanak elő. A reakció képlete: 7FeTiO6 + 2Cl2+ 6C = 2TiCl2 + XNUMXFeClXNUMX+ XNUMXCO. A titán-tetrakloridot desztillációval tisztítják, hogy eltávolítsák a szennyeződéseket, például a vas-, szilícium-, vanádium-kloridokat stb. Argon védelme alatt magnéziumot vagy nátriumot használnak a redukciós reakciókhoz, hogy szivacsszerű fémtitánt, nevezetesen szivacstitánt állítsanak elő. A magnézium-redukció példájaként a reakció képlete: TiClXNUMX + XNUMXMg = Ti + XNUMXMgClXNUMX. A redukciós reakció befejeződése után a maradék magnéziumot és magnézium-kloridot vákuumdesztillációval eltávolítjuk, így nagyobb tisztaságú szivacsos titánt kapunk.
Olvadás és tuskóöntés
Az olvadás előtt a titánszivacsnak el kell távolítania a felületi olajat, szennyeződéseket stb., és bizonyos arányban ötvözőelemeket kell hozzáadnia (ha titánötvözet lemezeket gyártanak). A gyakori olvasztási eljárások közé tartozik a vákuumban fogyasztható ívolvasztás (VAR) és az elektronsugaras hidegtűzhely-kemencés olvasztás (EBCHM).
Vákuumos fogyó ív olvasztás (VAR): Az előkezelt szivacs titán és ötvözet elemek keverékéből fogyó elektródát készítenek. Vákuumos környezetben a fogyóelektróda és a vízhűtéses réztégely között keletkező ív hőforrásként szolgál az olvasztáshoz. Az olvasztási folyamat során az elhasználható elektróda fokozatosan megolvad, és az olvasztótégelybe csöpög, így olvadt medence keletkezik. Az olvadt medencében lévő fém a vízhűtéses réztégely hatására gyorsan megszilárdul, így tuskó képződik. A VAR olvasztási folyamata során a vákuumkörnyezet hatékonyan eltávolítja a fémben lévő gázszennyeződéseket, például hidrogént, oxigént, nitrogént stb., hogy javítsa a titán és titánötvözetek tisztaságát és minőségét.
Elektronsugaras hideg kandallókemence olvasztása (EBCHM): Az elektronágyú által kibocsátott nagy energiájú elektronsugarat hőforrásként használják a szivacs titán vagy a vízhűtéses réz hidegágyba helyezett nyersanyagok megolvasztására. Az elektronsugár energiája erősen koncentrált, ami gyorsan megolvaszthatja a nyersanyagokat. Ugyanakkor a hűtőágy kialakítása lehetővé teszi, hogy az olvadt medencében lévő szennyeződések és meg nem olvadt részecskék leülepedjenek a hűtőágy aljára, és a salakkibocsátó eszköz eltávolítsa őket, ezáltal hatékonyan javítva a tuskó tisztaságát. Az EBCHM az olvasztási folyamat precíz vezérlését is elérheti, és egyenletes összetételű és stabil minőségű ingotokat tud előállítani. Különösen alkalmas kiváló minőségű és nagy teljesítményű titánötvözet tömbök előállítására. Az EBCHM berendezésekbe való beruházás azonban nagy, a gyártási hatékonyság pedig viszonylag alacsony, ami magas termelési költségeket eredményez.
Az olvasztás után a folyékony titán vízhűtéses réztégelyben vagy hűtőágyban megszilárdul, és ingót képez. A tuskó alakját és méretét a későbbi feldolgozási technológia és a termékkövetelmények határozzák meg. A gyakori tuskóformák közé tartozik a kerek és a négyzet.
A kovácsolás a titánlemezek gyártásának egyik fontos folyamata. Célja, hogy plasztikus deformációval javítsa a tuskó mikroszerkezetét és javítsa a titánlemez mechanikai tulajdonságait. A kovácsolást általában magas hőmérsékleten, általában 800-1200 ℃ között végzik.
Először a tuskót megfelelő kovácsolási hőmérsékletre hevítik, majd kovácsoló kalapáccsal vagy présen hajtják végre a kovácsolást. A fő kovácsolási módszerek a szabad kovácsolás és a kovácsolás. A szabad kovácsolás célja a tuskó tetszőleges deformációja a felső és az alsó üllő között, és a fém mikroszerkezetének megváltoztatása a kovácsolási arány szabályozásával (a tuskó keresztmetszeti területének aránya a deformáció előtt és után). A kovácsolási arány általában 3-8 között van szabályozva. A kovácsolás során a tuskót meghatározott alakú formába kell helyezni a kovácsoláshoz, így a tuskó a formaüregben jön létre. A kovácsolással összetett formájú és nagy méretpontosságú titánlemez tuskót állíthatunk elő.
A hengerlés a fő technológia a kovácsolt tuskó megfelelő vastagságú és méretű titánlemezekké történő további feldolgozásához. A hengerlés meleg- és hideghengerlésre oszlik.
Forró hengerlés: A meleghengerlést általában az átkristályosítási hőmérséklet felett végezzük. Titán és titánötvözetek esetében a meleghengerlési hőmérséklet általában 700-1000 ℃. A meleghengerlés fő célja a tuskó vastagságának csökkentése nagy deformáció révén, miközben javítja a fémszerkezetet és javítja a feldolgozási teljesítményét. A meleghengerlés jelentősen javíthatja a titánlemezek szilárdságát és szívósságát, és kiküszöbölheti a kovácsolás során előforduló belső hibákat, például a pórusokat és a lazaságot. A meleghengerlés után a titánlemez felületén oxidréteg képződik, amelyet gyakran használnak olyan területeken, mint az építőipar és a vegyipar, ahol viszonylag alacsony a felületminőségi követelmények.
Hideg gurulás: A hideghengerlés szobahőmérsékleten vagy alacsonyabb hőmérsékleten végzett hengerlési eljárás, amelyet főként vékony titánlemezek gyártására használnak nagy pontossággal és jó felületi minőséggel. Hideghengerlés előtt a melegen hengerelt lemezt elő kell kezelni, például pácolni az oxidréteg eltávolítása érdekében, és lágyítani az anyag plaszticitásának javítása érdekében. A hideghengerlés során a titánlemez vastagsága fokozatosan csökken többszöri, kis redukciós hengerléssel, miközben javítja a felület síkságát és méretpontosságát. A hideghengerléssel a titánlemez felületi minősége nagyon magas szintet érhet el, és tovább finomíthatja a szemcséket, javíthatja a titánlemez szilárdságát és keménységét. A hidegen hengerelt titánlemez vastagsági tartománya általában 0.2-4.5 mm, és széles körben használják olyan területeken, mint az elektronika és az orvosi berendezések, amelyek szigorú követelményeket támasztanak a felület minőségére és a méretpontosságra vonatkozóan.
Felületkezelés
A felületkezelés célja a titánlemez felületi minőségének javítása, korrózióállóságának és esztétikájának javítása. Az általános felületkezelési módszerek közé tartozik a pácolás, polírozás, passziválás stb. A pácolás során savas oldatot használnak a titánlemez felületén lévő oxidréteg, olajfoltok és szennyeződések eltávolítására, hogy a felület fémes fényt kapjon. A polírozás célja a titánlemez felületének finom megmunkálása mechanikai vagy kémiai módszerekkel, hogy simává és lapossá tegye, és javítsa a felület minőségét. A passziválás célja egy sűrű passzivációs film kialakítása a titánlemez felületén a korrózióállóság növelése érdekében. Különböző felületkezelési módszerek alkalmasak a különböző alkalmazási forgatókönyvekre, és a felhasználók az aktuális igényeknek megfelelően választhatják ki a megfelelő felületkezelési módot.
Ugyanakkor a Wstitanium nagy jelentőséget tulajdonít a minőségellenőrzésnek, és egy teljes minőségellenőrzési rendszert hozott létre, amely magában foglalja a kémiai összetétel elemzését, a mechanikai tulajdonságok vizsgálatát, a metallográfiai szerkezetvizsgálatot és a roncsolásmentes vizsgálatokat. A fejlett vizsgálóberendezések és a szigorú vizsgálati szabványok révén minden titánlemezt átfogó és többszintű tesztelésnek vetnek alá annak érdekében, hogy a termék minősége megfeleljen a nemzetközi szabványoknak és az ügyfelek szigorú követelményeinek.
