Layanan Cetak Injeksi Logam
Metal Injection Molding (MIM) menggabungkan serbuk logam dengan bahan pengikat, menyuntikkannya ke dalam cetakan, lalu memanaskannya untuk menghilangkan bahan pengikat dan menyinternya menjadi komponen yang tahan lama. Cocok untuk memproduksi target sputtering yang kecil, rumit, dan berpresisi tinggi. Kompatibel dengan berbagai macam material, seperti logam dasar besi, logam paduan nikel, logam paduan tungsten, logam paduan titanium, logam paduan suhu tinggi, dll.
- Dukungan Teknik 24/7
- Laporan Inspeksi Kualitas
- Toleransi ketat: +/- 0.005mm
- Dari 1 hingga 100+ Dalam 10 Hari
- Bersertifikat ISO 9001 & ISO 13485
- Semua unggahan aman dan rahasia.
Produsen Cetakan Injeksi Logam untuk Target Sputtering
Sebagai teknologi manufaktur komponen yang canggih, Metal Injection Molding (MIM) semakin mendapat perhatian luas dari target produsen sputteringSebagai produsen cetak injeksi logam terkenal di Tiongkok, WSTITANIUN telah menempati posisi penting di antara produsen target sputtering Tiongkok dengan kemampuan teknisnya yang luar biasa, keunggulan peralatan canggih, tim bakat yang kuat, dan keunggulan pasar yang signifikan.
Apa itu Cetak Injeksi Logam?
Cetakan injeksi logam adalah proses pencetakan near-net baru yang menggabungkan prinsip pencetakan injeksi plastik dengan teknologi metalurgi serbuk. Pertama, serbuk logam dicampur secara merata dengan jumlah pengikat organik yang sesuai untuk membentuk umpan injeksi dengan sifat reologi yang baik; kemudian umpan disuntikkan ke dalam rongga cetakan melalui mesin cetak injeksi untuk membentuk benda kerja dengan bentuk yang diinginkan; kemudian pengikat dalam benda kerja dihilangkan melalui proses degreasing; akhirnya, benda kerja dipadatkan melalui sintering suhu tinggi untuk mendapatkan bagian logam akhir. Dibandingkan dengan metode pemrosesan logam tradisional, teknologi pencetakan injeksi logam memiliki banyak keunggulan seperti kemampuan untuk memproduksi bagian dengan bentuk yang kompleks, akurasi dimensi yang tinggi, penyelesaian permukaan yang baik, efisiensi produksi yang tinggi, dan pemanfaatan material yang tinggi. Ini adalah salah satu teknologi yang ideal untuk memproduksi target sputtering logam.
Cetakan Injeksi Logam vs Metalurgi Serbuk
Cetakan Injeksi Logam (MIM)
MIM unggul dalam memproduksi target sputtering kompleks berukuran kecil hingga sedang dengan toleransi ketat (±0.1% hingga ±0.5%) dan menawarkan kepadatan tinggi (95-98%) serta hasil akhir permukaan yang sangat baik. MIM sangat cocok untuk produksi bervolume tinggi dan hemat biaya untuk target sputtering yang memerlukan pasca-pemrosesan minimal.
PM paling cocok untuk target sputtering yang lebih besar dan berbentuk lebih sederhana, mencapai kepadatan 90-95% dan toleransi ±0.5% hingga ±2%. Pekerjaan finishing lebih lanjut mungkin diperlukan karena biaya perkakas yang lebih rendah dan kemampuan untuk memproses berbagai macam material.
Kemampuan Cetakan Injeksi Logam Wsitanium
Investasi R&D dan kerja sama tim Wstitanium yang berkelanjutan telah menghasilkan terobosan besar dalam banyak aspek utama teknologi cetak injeksi logam. Formula bahan baku baru yang dikembangkan telah meningkatkan kinerja dan kualitas target sputtering secara signifikan; proses cetak injeksi yang dioptimalkan telah meningkatkan efisiensi produksi secara signifikan sekaligus memastikan presisi dan stabilitas produk yang tinggi; teknologi degreasing dan sintering yang unik telah secara efektif mengatasi cacat dalam proses tradisional dan selanjutnya meningkatkan daya saing target sputtering.
- Ketebalan dinding minimum: 0.4 mm
- Ukuran bagian kustom minimum: 1×2×2 mm
- Ukuran bagian kustom maksimum: 400×400×80 mm
- Berat bersih minimum: 0.1g
- Berat bersih maks: 450g
- Hemat biaya Berat maks: 100g
- Toleransi minimum: ± 0.005 mm
- Efisiensi Maksimum: 10K pcs per hari
- Referensi desain presisi: 0.1%
Pembuatan Cetakan Presisi
Cetakan adalah alat utama untuk pencetakan injeksi logam, dan kualitasnya secara langsung memengaruhi presisi dan kualitas target sputtering. Peralatan manufaktur cetakan yang diinvestasikan oleh WSTITANIUN mencakup pusat permesinan CNC 5 sumbu, mesin EDM, dan mesin pemotong kawat. Akurasi posisi pusat permesinan CNC dapat mencapai ±0.0005mm, dan akurasi posisi berulang dapat mencapai ±0.0005mm, yang dapat menghasilkan cetakan dengan bentuk kompleks dan persyaratan presisi tinggi. Untuk pengukuran cetakan target sputtering logam murni, faktor-faktor seperti bentuk, ukuran, persyaratan presisi bahan target dan laju penyusutan selama proses pencetakan injeksi sepenuhnya dipertimbangkan. Bahan cetakan biasanya terbuat dari baja paduan berkekuatan tinggi dan tahan aus tinggi, seperti Cr12MoV, H13, dll., dan dikerjakan dengan mesin presisi dan diberi perlakuan panas untuk memastikan akurasi dimensi dan permukaan akhir cetakan.
Optimasi Sistem Injeksi
Peralatan cetak injeksi di dalam WSTITANIUN menggunakan motor servo presisi tinggi dan teknologi kontrol hidrolik canggih, yang dapat mencapai kontrol tekanan injeksi, kecepatan injeksi, dan volume injeksi yang presisi. Tekanan injeksi dapat disesuaikan secara presisi hingga ±0.1MPa, kecepatan injeksi dapat dikontrol dengan akurasi ±0.1mm/s, dan deviasi volume injeksi dapat dikontrol dalam ±0.01g. Hal ini memastikan bahwa bahan umpan terisi secara merata di rongga cetakan saat membuat target sputtering, sehingga memastikan akurasi dimensi dan kualitas internal target. Misalnya, untuk target sputtering tembaga murni dengan diameter 100mm, tekanan injeksi yang tepat mungkin antara 50-80MPa, kecepatan injeksi 50-100mm/s, suhu cetakan 60-80℃, tekanan penahan 30-50MPa, dan waktu penahan 10-20s.
Degreasing
Degreasing adalah proses penghilangan bahan pengikat dan merupakan salah satu mata rantai utama dalam pembuatan target sputtering logam murni dengan pencetakan injeksi logam. Parameter seperti suhu, waktu, dan atmosfer dalam proses degreasing memiliki pengaruh penting pada efek degreasing dan kualitas blanko, dan perlu dikontrol secara ketat. Misalnya, selama proses debinding termal, laju pemanasan tidak boleh terlalu cepat, untuk menghindari retaknya blanko karena ketidakmampuan mengeluarkan gas yang dihasilkan oleh dekomposisi bahan pengikat yang cepat tepat waktu; suhu debinding umumnya antara 400-800℃, dan waktu debinding bergantung pada ketebalan blanko dan kandungan bahan pengikat, biasanya antara beberapa jam dan puluhan jam.
Sintering
Sintering adalah proses pemadatan blanko yang telah dipisahkan pada suhu tinggi untuk memperoleh target sputtering logam murni akhir. Parameter seperti suhu, waktu, dan atmosfer selama proses sintering memiliki pengaruh penting pada kepadatan, ukuran butiran, dan sifat mekanis target. Untuk target sputtering logam murni, sintering vakum atau sintering di bawah perlindungan gas inert (argon) biasanya digunakan untuk mencegah logam teroksidasi pada suhu tinggi. Suhu sintering umumnya antara 0.7-0.9 kali titik leleh logam. Misalnya, titik leleh tembaga murni adalah 1083℃, dan suhu sinteringnya mungkin antara 800-950℃. Waktu sintering bergantung pada ukuran dan bentuk target, umumnya antara 1-5 jam. Dengan mengoptimalkan parameter proses sintering, kepadatan dan kekompakan material target dapat ditingkatkan untuk mencapai atau mendekati kepadatan teoritis, sambil mengendalikan pertumbuhan ukuran butiran dan meningkatkan sifat mekanis serta kinerja sputtering dari material target.
Pembuatan target sputtering logam murni
WSTITANIUN telah menguasai serangkaian teknologi manufaktur target sputtering logam murni. Bahan baku dengan kemurnian sangat tinggi digunakan, dan kemurnian serta keseragaman logam dipastikan melalui proses peleburan yang presisi. Dalam proses pencetakan injeksi logam, penggunaan teknologi injeksi presisi tinggi yang dikembangkan sendiri dapat mencapai kontrol yang presisi terhadap ukuran dan bentuk target, dan deviasi dapat dikontrol dalam rentang yang sangat kecil. Pada saat yang sama, proses degreasing dan sintering yang unik secara efektif menghilangkan kotoran, meningkatkan kepadatan dan kekompakan target, dan membuat kinerjanya mencapai tingkat terdepan di dunia. Misalnya, target sputtering tembaga murni yang diproduksi memiliki kemurnian lebih dari 99.999%, yang telah banyak digunakan dalam bidang-bidang canggih seperti manufaktur semikonduktor.
Pembuatan target sputtering paduan
Pembuatan target sputtering paduan memerlukan kontrol yang tepat terhadap proporsi dan distribusi setiap elemen paduan, yang memiliki persyaratan teknis yang sangat tinggi. WSTITANIUN telah berhasil mengatasi masalah ini dengan kemampuan akumulasi dan inovasi teknis yang mendalam. Kami menggunakan konsep desain paduan canggih yang dikombinasikan dengan proses peleburan dan pencampuran yang unik untuk memastikan bahwa elemen paduan terdistribusi secara merata dalam target. Dalam proses pencetakan injeksi, penghilangan lemak, dan sintering berikutnya, kinerja target paduan lebih ditingkatkan dengan mengoptimalkan parameter proses. Misalnya, target sputtering paduan tembaga indium galium selenida yang digunakan dalam pembuatan sel surya memiliki sifat optoelektronik dan stabilitas yang sangat baik, yang memberikan dukungan yang kuat untuk pengembangan industri surya.
Pembuatan target sputtering tanah jarang
Target sputtering tanah jarang sangat sulit diproduksi karena sifat fisik dan kimianya yang khusus. WSTITANIUN memiliki tim peneliti material tanah jarang profesional yang telah melakukan penelitian mendalam tentang karakteristik elemen tanah jarang. Dengan mengembangkan teknologi pra-perlakuan bahan baku tanah jarang baru dan teknologi cetak injeksi canggih, masalah oksidasi yang mudah dan pencetakan target tanah jarang yang sulit telah dipecahkan secara efektif. Pada saat yang sama, dalam proses sintering, kami menggunakan kombinasi sintering vakum suhu tinggi dan pengepresan isostatik panas untuk meningkatkan kualitas dan kinerja target tanah jarang secara signifikan. Target sputtering tanah jarang yang diproduksi oleh WSTITANIUN banyak digunakan dalam bidang-bidang canggih seperti optoelektronik dan material magnetik, yang menyediakan dukungan material utama untuk pengembangan industri terkait.
Layanan Finishing
Meskipun teknologi cetak injeksi logam dapat menghasilkan target sputtering kosong dengan presisi dan kualitas tertentu, langkah penyelesaian sangat penting untuk memenuhi persyaratan ketat dari berbagai bidang aplikasi untuk target. Untuk memenuhi dimensi yang tepat, penggilingan CNC presisi, pembubutan, dan proses lainnya digunakan. Kedua, kualitas permukaan memiliki dampak besar pada kinerja target sputtering. Penggilingan CNC dapat secara signifikan mengurangi kekasaran permukaan target, meningkatkan kerataan dan penyelesaian permukaan, dan memastikan stabilitas proses sputtering dan keseragaman film. Selain itu, melalui penyelesaian, struktur internal target dapat dioptimalkan, tegangan internal dapat dihilangkan, dan sifat fisik dan stabilitas kimia target dapat ditingkatkan, sehingga memenuhi persyaratan ketat dalam berbagai skenario aplikasi.
Target Sputtering Penggilingan CNC
Target Sputtering Pembubutan CNC
Target Penggilingan CNC Sputtering
Pengecekan kualitas
WSTITANIUN secara ketat mengikuti sistem manajemen mutu ISO9001:2015, mulai dari bahan baku, proses produksi, pemeriksaan mutu, hingga layanan purnajual. Pemasok disaring dan dievaluasi secara ketat untuk memastikan bahwa mutu bahan baku memenuhi persyaratan. Prosedur operasi terperinci telah dirumuskan untuk memantau dan memeriksa setiap proses secara langsung guna menemukan dan memecahkan masalah dengan segera. Dalam tautan pemeriksaan mutu, peralatan pengujian canggih dan personel pengujian profesional diperlengkapi untuk melakukan pengujian menyeluruh terhadap target sputtering dan memberi Anda laporan pemeriksaan mutu yang menyeluruh.
Bahan baku
Untuk memastikan bahwa komposisi kualitas bahan baku memenuhi persyaratan, WSTITANIUN dilengkapi dengan peralatan analisis komposisi material canggih, seperti spektrometer fluoresensi sinar-X (XRF), dll. Peralatan ini dapat menganalisis komposisi kimia berbagai bahan logam dengan cepat dan akurat, dan akurasi deteksinya dapat mencapai tingkat ppm.
Sifat fisik
Instrumen pengukuran, penguji kekerasan, densitometer, pengukur ekspansi termal, dsb. dapat secara komprehensif menguji dan menganalisis sifat mekanis (tarik, kompresi, tekukan, dsb.), kekerasan, densitas, koefisien ekspansi termal, dan sifat fisik lainnya dari target sputtering, menyediakan dukungan data penting untuk desain dan penerapan target sputtering.
Mikrostruktur
WSTITANIUN dilengkapi dengan difraktometer sinar-X (XRD), yang dapat mendeteksi struktur kristal internal, distribusi cacat, komposisi fase, dan informasi lain dari target sputtering, serta menganalisis secara akurat struktur kristal dan komposisi fase target sputtering, yang menyediakan dasar penting untuk pengendalian mutu dan pengoptimalan kinerja.
Pencetakan injeksi logam menggabungkan fleksibilitas pencetakan injeksi plastik dengan keunggulan kinerja tinggi dari metalurgi serbuk, yang membawa perubahan revolusioner pada pembuatan target sputtering. Dibandingkan dengan metode pembuatan target tradisional, teknologi MIM dapat mencapai pencetakan target berbentuk kompleks yang mendekati bersih, sehingga sangat mengurangi jumlah pemrosesan berikutnya, dan meningkatkan pemanfaatan material serta efisiensi produksi. Dengan mengendalikan parameter pencetakan injeksi secara tepat, tim Wstitanium mampu menyiapkan blanko target dengan akurasi dimensi tinggi dan struktur internal yang seragam. Misalnya, untuk target sputtering dengan struktur berbentuk khusus, teknologi MIM dapat digunakan untuk pencetakan satu kali, sehingga menghindari operasi yang rumit dan pemborosan material dari berbagai proses dalam metode pemrosesan tradisional. Pada saat yang sama, teknologi MIM juga dapat mencapai pencetakan komposit dari berbagai material, sehingga menyediakan ruang yang luas untuk pengembangan target sputtering berkinerja tinggi yang baru.
