Servizi di stampaggio ad iniezione di metalli
Lo stampaggio a iniezione di metallo (MIM) combina polvere di metallo con un legante, lo inietta in uno stampo e poi lo riscalda per rimuovere il legante e sinterizzarlo in un componente durevole. È adatto alla produzione di target per sputtering piccoli, complessi e ad alta precisione. È compatibile con un'ampia gamma di materiali, come leghe di ferro, leghe di nichel, leghe di tungsteno, leghe di titanio, leghe resistenti alle alte temperature, ecc.
- Supporto tecnico 24 ore su 7, XNUMX giorni su XNUMX
- Rapporto di ispezione della qualità
- Tolleranza stretta: +/- 0.005 mm
- Da 1 a 100+ entro 10 giorni
- Certificati ISO 9001 e ISO 13485
- Tutti i caricamenti sono sicuri e riservati.
Produttori di stampaggio a iniezione di metalli per target di sputtering
Come tecnologia avanzata di produzione di parti, lo stampaggio a iniezione di metallo (MIM) sta guadagnando sempre più attenzione da parte produttori di obiettivi di sputteringIn qualità di noto produttore di stampaggio a iniezione di metalli in Cina, WSTITANIUN ha occupato una posizione importante tra i produttori cinesi di sputtering target grazie alle sue eccellenti capacità tecniche, ai vantaggi delle attrezzature avanzate, al solido team di talenti e ai significativi vantaggi di mercato.
Cos'è lo stampaggio ad iniezione di metalli?
Stampaggio ad iniezione di metalli è un nuovo processo di stampaggio near-net che combina il principio dello stampaggio a iniezione di materie plastiche con la tecnologia della metallurgia delle polveri. Innanzitutto, la polvere metallica viene miscelata uniformemente con una quantità appropriata di legante organico per formare un materiale di iniezione con buone proprietà reologiche; quindi, il materiale viene iniettato nella cavità dello stampo tramite una macchina per stampaggio a iniezione per formare un pezzo grezzo della forma desiderata; quindi, il legante nel pezzo grezzo viene rimosso tramite un processo di sgrassaggio; infine, il pezzo grezzo viene densificato tramite sinterizzazione ad alta temperatura per ottenere il componente metallico finale. Rispetto ai tradizionali metodi di lavorazione dei metalli, la tecnologia di stampaggio a iniezione di metalli offre numerosi vantaggi, come la capacità di produrre componenti con forme complesse, elevata precisione dimensionale, buona finitura superficiale, elevata efficienza produttiva e un elevato utilizzo del materiale. È una delle tecnologie ideali per la produzione di target metallici mediante sputtering.
Stampaggio a iniezione di metallo vs metallurgia delle polveri
Metal Injection Moulding (MIM)
La tecnologia MIM eccelle nella produzione di target di sputtering complessi di piccole e medie dimensioni con tolleranze ristrette (da ±0.1% a ±0.5%) e offre un'elevata densità (95-98%) e un'eccellente finitura superficiale. La tecnologia MIM è adatta alla produzione in grandi volumi ed è conveniente per target di sputtering che richiedono una post-elaborazione minima.
La PM è più adatta per target di sputtering più grandi e di forma più semplice, raggiungendo una densità del 90-95% e tolleranze da ±0.5% a ±2%. Potrebbero essere necessari più lavori di finitura a causa dei minori costi di attrezzaggio e della capacità di elaborare un'ampia gamma di materiali.
Capacità di stampaggio a iniezione di metalli in titanio
I continui investimenti in ricerca e sviluppo e il lavoro di squadra di Wstitanium hanno portato a importanti progressi in molti aspetti chiave della tecnologia di stampaggio a iniezione di metalli. La nuova formula delle materie prime sviluppata ha migliorato significativamente le prestazioni e la qualità dei target per sputtering; il processo di stampaggio a iniezione ottimizzato ha migliorato significativamente l'efficienza produttiva, garantendo al contempo elevata precisione e stabilità del prodotto; l'esclusiva tecnologia di sgrassaggio e sinterizzazione ha risolto efficacemente i difetti dei processi tradizionali e migliorato ulteriormente la competitività dei target per sputtering.
- Spessore minimo della parete: 0.4 mm
- Dimensione minima della parte personalizzata: 1×2×2 mm
- Dimensione massima della parte personalizzata: 400×400×80 mm
- Peso netto minimo: 0.1 g
- Peso netto massimo: 450 g
- Conveniente Peso massimo: 100 g
- Tolleranza minima: ± 0.005 mm
- Massima efficienza: 10 pezzi al giorno
- Riferimento di progettazione di precisione: 0.1%
Produzione di stampi di precisione
Lo stampo è uno strumento chiave per lo stampaggio a iniezione di metalli e la sua qualità influisce direttamente sulla precisione e sulla qualità del target di sputtering. Le attrezzature per la produzione di stampi utilizzate da WSTITANIUN includono centri di lavoro CNC a 5 assi, macchine per elettroerosione a tuffo e macchine per taglio a filo. La precisione di posizionamento del centro di lavoro CNC può raggiungere ±0.0005 mm e la precisione di posizionamento ripetuto può raggiungere ±0.0005 mm, consentendo di produrre stampi con forme complesse e requisiti di elevata precisione. Per la misurazione dello stampo di target di sputtering in metallo puro, vengono considerati attentamente fattori quali la forma, le dimensioni, i requisiti di precisione del materiale target e il tasso di ritiro durante il processo di stampaggio a iniezione. Il materiale dello stampo è solitamente realizzato in acciaio legato ad alta resistenza e alta resistenza all'usura, come Cr12MoV, H13, ecc., ed è lavorato con precisione e trattato termicamente per garantire la precisione dimensionale e la finitura superficiale dello stampo.
Ottimizzazione del sistema di iniezione
L'impianto di stampaggio a iniezione di WSTITANIUN utilizza servomotori ad alta precisione e una tecnologia avanzata di controllo idraulico, che consente un controllo preciso della pressione, della velocità e del volume di iniezione. La pressione di iniezione può essere regolata con precisione a ±0.1 MPa, la velocità di iniezione può essere controllata con una precisione di ±0.1 mm/s e la deviazione del volume di iniezione può essere controllata entro ±0.01 g. Ciò garantisce che il materiale di alimentazione venga riempito uniformemente nella cavità dello stampo durante la produzione di target per sputtering, garantendo così la precisione dimensionale e la qualità interna del target. Ad esempio, per un target per sputtering in rame puro con un diametro di 100 mm, la pressione di iniezione appropriata può essere compresa tra 50 e 80 MPa, la velocità di iniezione è di 50-100 mm/s, la temperatura dello stampo è di 60-80 °C, la pressione di mantenimento è di 30-50 MPa e il tempo di mantenimento è di 10-20 secondi.
sgrassante
Lo sgrassaggio è il processo di rimozione del legante ed è uno degli elementi chiave nella produzione di target per sputtering di metallo puro mediante stampaggio a iniezione. Parametri come temperatura, tempo e atmosfera nel processo di sgrassaggio hanno un'influenza importante sull'effetto sgrassante e sulla qualità del pezzo grezzo e devono essere rigorosamente controllati. Ad esempio, durante il processo di deceraggio termico, la velocità di riscaldamento non deve essere troppo elevata, in modo da evitare la formazione di crepe nel pezzo grezzo dovute all'incapacità di scaricare in tempo il gas generato dalla rapida decomposizione del legante; la temperatura di deceraggio è generalmente compresa tra 400 e 800 °C e il tempo di deceraggio dipende dallo spessore del pezzo grezzo e dal contenuto di legante, solitamente compreso tra diverse ore e decine di ore.
sinterizzazione
La sinterizzazione è il processo di densificazione ad alta temperatura del pezzo grezzo delegato per ottenere il target finale per sputtering in metallo puro. Parametri come temperatura, tempo e atmosfera durante il processo di sinterizzazione influenzano in modo significativo la densità, la granulometria e le proprietà meccaniche del target. Per i target per sputtering in metallo puro, si utilizza solitamente la sinterizzazione sotto vuoto o la sinterizzazione sotto protezione di gas inerte (argon) per impedire l'ossidazione del metallo ad alte temperature. La temperatura di sinterizzazione è generalmente compresa tra 0.7 e 0.9 volte il punto di fusione del metallo. Ad esempio, il punto di fusione del rame puro è 1083 °C e la sua temperatura di sinterizzazione può essere compresa tra 800 e 950 °C. Il tempo di sinterizzazione dipende dalle dimensioni e dalla forma del target, generalmente tra 1 e 5 ore. Ottimizzando i parametri del processo di sinterizzazione, è possibile migliorare la densità e la compattezza del materiale target per raggiungere o avvicinarsi alla densità teorica, controllando al contempo la crescita delle dimensioni dei grani e migliorando le proprietà meccaniche e le prestazioni di sputtering del materiale target.
Produzione di target per sputtering di metallo puro
WSTITANIUN ha perfezionato una serie di tecnologie di produzione di target per sputtering in metallo puro. Vengono utilizzate materie prime ad altissima purezza e la purezza e l'uniformità del metallo sono garantite da precisi processi di fusione. Nel processo di stampaggio a iniezione di metalli, l'utilizzo di una tecnologia di iniezione ad alta precisione sviluppata internamente consente di ottenere un controllo preciso delle dimensioni e della forma del target, con una deviazione controllata entro un intervallo molto limitato. Allo stesso tempo, l'esclusivo processo di sgrassaggio e sinterizzazione rimuove efficacemente le impurità, migliora la densità e la compattezza del target e ne garantisce le prestazioni ai vertici internazionali. Ad esempio, il target per sputtering in rame puro prodotto ha una purezza superiore al 99.999%, ampiamente utilizzato in settori di fascia alta come la produzione di semiconduttori.
Produzione di obiettivi per sputtering di lega
La produzione di target per sputtering in lega richiede un controllo preciso delle proporzioni e della distribuzione di ciascun elemento della lega, con requisiti tecnici estremamente elevati. WSTITANIUN ha superato con successo questo problema grazie alla sua profonda competenza tecnica e alle sue capacità di innovazione. Utilizziamo concetti avanzati di progettazione delle leghe, combinati con processi di fusione e miscelazione esclusivi, per garantire che gli elementi della lega siano distribuiti uniformemente nel target. Nei successivi processi di stampaggio a iniezione, sgrassaggio e sinterizzazione, le prestazioni del target in lega vengono ulteriormente migliorate ottimizzando i parametri di processo. Ad esempio, un target per sputtering in lega di seleniuro di rame, indio e gallio, utilizzato nella produzione di celle solari, presenta eccellenti proprietà optoelettroniche e stabilità, fornendo un forte supporto allo sviluppo dell'industria solare.
Produzione di bersagli per sputtering di terre rare
I target per sputtering di terre rare sono estremamente difficili da produrre a causa delle loro particolari proprietà fisiche e chimiche. WSTITANIUN dispone di un team di ricerca professionale sui materiali a base di terre rare che ha condotto ricerche approfondite sulle caratteristiche degli elementi delle terre rare. Grazie allo sviluppo di una nuova tecnologia di pretrattamento delle materie prime a base di terre rare e di una tecnologia avanzata di stampaggio a iniezione, i problemi di facile ossidazione e difficoltà di stampaggio dei target in terre rare sono stati risolti efficacemente. Allo stesso tempo, nel processo di sinterizzazione, utilizziamo una combinazione di sinterizzazione sotto vuoto ad alta temperatura e pressatura isostatica a caldo per migliorare significativamente la qualità e le prestazioni dei target in terre rare. I target per sputtering di terre rare prodotti da WSTITANIUN sono ampiamente utilizzati in settori di fascia alta come l'optoelettronica e i materiali magnetici, fornendo un supporto materiale chiave per lo sviluppo di settori correlati.
Servizi di finitura
Sebbene la tecnologia di stampaggio a iniezione di metalli consenta di produrre bersagli grezzi per sputtering con una certa precisione e qualità, la fase di finitura è essenziale per soddisfare i severi requisiti dei vari campi di applicazione dei bersagli. Per ottenere dimensioni precise, vengono utilizzati processi di fresatura CNC di precisione, tornitura e altri processi. In secondo luogo, la qualità della superficie ha un impatto enorme sulle prestazioni dei bersagli per sputtering. La rettifica CNC può ridurre significativamente la rugosità superficiale del bersaglio, migliorarne la planarità e la finitura e garantire la stabilità del processo di sputtering e l'uniformità della pellicola. Inoltre, attraverso la finitura, è possibile ottimizzare la struttura interna del bersaglio, eliminare le tensioni interne e migliorarne le proprietà fisiche e la stabilità chimica, soddisfacendo così i severi requisiti di diversi scenari applicativi.
Obiettivi di sputtering per fresatura CNC
Obiettivi di sputtering per tornitura CNC
Bersaglio per sputtering per rettifica CNC
Ispezione di qualità
WSTITANIUN segue rigorosamente il sistema di gestione della qualità ISO9001:2015, dalle materie prime, al processo di produzione, al controllo qualità, fino al servizio post-vendita. I fornitori vengono attentamente selezionati e valutati per garantire che la qualità delle materie prime soddisfi i requisiti. Sono state formulate procedure operative dettagliate per monitorare e ispezionare ogni processo in tempo reale, al fine di individuare e risolvere tempestivamente eventuali problemi. Nel settore del controllo qualità, apparecchiature di collaudo all'avanguardia e personale qualificato sono in grado di condurre test completi sui target di sputtering e di fornire un rapporto completo sul controllo qualità.
Materie Prime
Per garantire che la composizione qualitativa delle materie prime soddisfi i requisiti, WSTITANIUN è dotata di apparecchiature avanzate per l'analisi della composizione dei materiali, come lo spettrometro a fluorescenza a raggi X (XRF), ecc. Può analizzare in modo rapido e accurato la composizione chimica di vari materiali metallici e la precisione di rilevamento può raggiungere il livello di ppm.
Proprietà fisiche
Strumenti di misura, durometri, densitometri, misuratori di dilatazione termica, ecc. possono testare e analizzare in modo completo le proprietà meccaniche (trazione, compressione, flessione, ecc.), la durezza, la densità, il coefficiente di dilatazione termica e altre proprietà fisiche dei target di sputtering, fornendo un importante supporto di dati per la progettazione e l'applicazione dei target di sputtering.
microstruttura
WSTITANIUN è dotato di un diffrattometro a raggi X (XRD), in grado di rilevare la struttura cristallina interna, la distribuzione dei difetti, la composizione di fase e altre informazioni del target di sputtering e di analizzare accuratamente la struttura cristallina e la composizione di fase del target di sputtering, fornendo una base importante per il controllo di qualità e l'ottimizzazione delle prestazioni.
Lo stampaggio a iniezione di metallo combina la flessibilità dello stampaggio a iniezione di materie plastiche con i vantaggi ad alte prestazioni della metallurgia delle polveri, apportando cambiamenti rivoluzionari alla produzione di target per sputtering. Rispetto ai metodi tradizionali di produzione di target, la tecnologia MIM consente di ottenere uno stampaggio quasi netto di target di forma complessa, riducendo notevolmente la quantità di lavorazioni successive e migliorando l'utilizzo dei materiali e l'efficienza produttiva. Controllando con precisione i parametri di stampaggio a iniezione, il team di Wstitanium è in grado di preparare grezzi per target con elevata precisione dimensionale e struttura interna uniforme. Ad esempio, per target per sputtering con strutture di forma speciale, la tecnologia MIM può essere utilizzata per lo stampaggio in un'unica soluzione, evitando le complesse operazioni e gli sprechi di materiale tipici dei processi multipli dei metodi di lavorazione tradizionali. Allo stesso tempo, la tecnologia MIM consente anche lo stampaggio composito di materiali diversi, offrendo ampio spazio allo sviluppo di nuovi target per sputtering ad alte prestazioni.
